AIや5GなどIoT技術の進歩を支えている半導体加工技術において、高機能な薄膜を形成することは、非常に重要であります。薄膜形成技術については、古くからいろいろな手法が開発され、LSI、ディスプレイ、太陽電池などのエレクトロニクスの分野で広く活用されてきました。
本セミナーでは、近年、特に注目を浴びているALD（原子層堆積）/ALE（原子層エッチング）技術について、その基礎と応用について概説します。特に、堆積の原理や材料について詳しく紹介します。また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介します。
1）セミナーテーマ及び開催日時
テーマ：ALD（原子層堆積）/ ALE（原子層エッチング）技術の基礎と応用
開催日時：2023年11月30日（木）10：00～16：00
参 加 費：55,000円（税込） ※ 資料付
＊ メルマガ登録者は 49,500円（税込）
＊ アカデミック価格は 26,400円（税込）
講 師：浦岡 行治 氏 奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科 教授
【セミナーで得られる知識】
・ 半導体プロセス技術全般（特にALD技術）
・ 半導体デバイス技術（特にMOSデバイス）
・ 半導体材料の評価技術（電気的/化学的/物理的）
※本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。推奨環境は当該ツールをご参照ください。後日、視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
★受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。
2）申し込み方法
シーエムシー・リサーチの当該セミナーサイト
https://cmcre.com/archives/116480/
からお申し込みください。
折り返し、 視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
詳細はURLをご覧ください。
3）セミナープログラムの紹介
1. 薄膜形成技術の基礎
1.1 薄膜作製の基礎
1.2 薄膜の評価方法
1.2.1 電気的評価
1.2.2 化学的分析法
1.2.3 光学的評価法
2. ALD技術の基礎
2.1 ALD技術の原理
2.2 ALD薄膜の特長
2.3 ALD技術の歴史
2.4 ALD装置の仕組み
2.5 ALD技術の材料
3. ALD技術の応用
3.1 パワーデバイスへの応用
3.2 酸化物薄膜トランジスタへの応用
3.3 MOS LSIへの応用
4. ALE技術の基礎
4.1 ALEの歴史
4.2 ALEの原理
5. ALE技術の応用事例
3.1 シリコン、窒化ガリウム等半導体材料への応用
3.2 シリコン酸化膜、窒化膜等絶縁膜への応用
3.3 Co等金属膜への応用
6. ALD/ALE技術の課題と展望
4）講師紹介
【講師経歴】
1985年3月 豊橋技術科学大学大学院 電気電子修士修了
1985年4月 松下電器産業（株） 半導体研究センター
1996年4月 松下電器産業（株） 液晶開発センター
1999年4月 奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科 助教授
2009年4月 奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科 教授
【活 動】
1. 応用物理学会 フェロー
2. IEEE シニアメンバー
3. IEEE/AMFPD 国際学会実行委員長
4. JJAP/APEX 副編集委員長
5. CMC出版「低温ポリシリコントランジスタの開発」
6. Intelligent Nanosystems for Energy, Information and BiologicalTechnologies（ISBN:978-4-431-56427-0 (Print) 978-4-431-56429-4 (Online)）
5）セミナー対象者や特典について
※ 本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。推奨環境は当該ツールをご参照ください。後日、視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
★ 受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。
【セミナー対象者】
・ 半導体プロセス・デバイス技術者・学生/教員・企業関係者・研究企画関係者
☆詳細とお申し込みはこちらから↓
https://cmcre.com/archives/116480/
6）ウェビナー（オンライン配信セミナー）のご案内
〇レアメタルの概要と注目市場
― 車載LIB、電動化、半導体、電子・電池材料、航空機・軽金属用途の原料市場
開催日時：2023年11月8日（水）13：30～16：30
https://cmcre.com/archives/114727/
〇ウェットコーティング・単層、重層塗布方式の基礎とダイ膜厚分布・
特許・塗布故障
開催日時：2023年11月8日（水）13：30～16：30
https://cmcre.com/archives/114204/
〇シランカップリング剤のすべてが分かる一日速習セミナー
シランカップリング剤の基礎と応用
～ 効果的活用法・反応機構・処理効果・具体的応用例 ～
開催日時：2023年11月9日（木）10：30～16：30
https://cmcre.com/archives/116443/
※会場受講型セミナーもございます
https://cmcre.com/archives/116465/
〇燃料電池・水電解の基本を電気化学の基礎から学ぶ速習セミナー
開催日時：2023年11月9日（木）10：00～17：00
https://cmcre.com/archives/115389/
〇EVにおける車載機器の熱対策
開催日時：2023年11月9日（木）10：30～16：30
https://cmcre.com/archives/112856/
○有機フッ素化合物の最新規制動向と要求事項
開催日時：2023年11月10日（金）13：30～16：30
https://cmcre.com/archives/117489/
○今注目の5G/6G次世代通信に対応する基板技術開発動向
～ 超高周波対応基板材料、メタマテリアルアンテナ（EBG構造）、
先端半導体PKG、自動車センサモジュールなどのキーテクノロジーを詳解 ～
開催日時：2023年11月10日（金）13：30～16：30
https://cmcre.com/archives/116772/
○プラスチックのケミカルリサイクル技術最新動向
開催日時：2023年11月10日（金）13：30～16：30
https://cmcre.com/archives/117211/
※会場受講型セミナーもございます
https://cmcre.com/archives/117299/
〇熱伝導コンポジット材料の微視構造設計と特性評価
開催日時：2023年11月13日（月）13：30～16：30
https://cmcre.com/archives/116873/
〇架橋ポリオレフィンのマテリアルリサイクル技術の最先端
開催日時：2023年11月14日（火）13：30～15：00
https://cmcre.com/archives/114915/
〇半導体封止材の最新技術動向と設計技術
開催日時：2023年11月14日（火）13：00～16：30
https://cmcre.com/archives/115458/
〇導電性コンポジットの開発に向けたフィラーの種類、特性と配合・分散技術
開催日時：2023年11月15日（水）10：30～16：30
https://cmcre.com/archives/104000/
〇計算×情報×実験による 人間の経験則を超えた磁性材料の創製
～ 未踏物質の発見をアシスト ～
開催日時：2023年11月16日（木）13：30～16：30
https://cmcre.com/archives/113128/
☆開催予定のウェビナー一覧はこちらから！↓
https://cmcre.com/archives/category/cmc_all/
7）関連書籍のご案内
☆発行書籍の一覧はこちらから↓
https://cmcre.com/archives/category/cmc_all/
以上
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